芯片薄膜材料,半导体芯片镀膜 -爱游戏平台

苗坤旺离型膜

高纯钨靶材是典型过渡金属钨的一种化工产品,其因纯度高(大于99.95%),密度大(19.35g/cm3),蒸气压低,蒸发速度小,耐高温性能好等特点,常用来生产厚度超小的氧化钨薄膜。就目前火热的半导体芯片来说,新型氧化钨薄膜能很好的作为它的扩散阻挡层、粘结层和大型集成电路存储器电极等,进而能显著升高芯片产品的综合质量。

半导体芯片用高纯钨靶材图片

高纯钨靶材是如何生产出氧化钨薄膜的呢?溅射法是制备氧化钨薄膜材料的主要技术之一,它通过高速运动的离子轰击钨靶材,产生的原子放射出来累积在基体的表面,形成镀膜。利用靶材溅射沉积法生产的氧化钨薄膜具有致密度高,附着性好、耐腐蚀性能良好等优点,因而适合应用于半导体芯片中。

那钨靶材应如何制作?将钨粉末放入包套并抽真空,采用冷等静压工艺将包套内的钨粉末进行第一次致密化处理,形成第一钨靶材坯料;第一次致密化处理后,去除包套,采用感应烧结工艺将第一钨靶材坯料进行第二次致密化处理,形成第二钨靶材坯料;第二次致密化处理后,采用热等静压工艺将第二钨靶材坯料进行第三次致密化处理,形成钨靶材。利用该方法生产的钨靶材,具有密度高,杂质含量低,机械稳定性强,内部组织结构均匀性好,以及晶粒尺寸较大的特点,能更好地满足现代溅射工艺的要求。

从20世纪末开始集成光学得到了迅速的发展,它可以实现将多个光学元件集成在同一块芯片材料上,形成一个结构复杂、功能强大的微型/小型器件,以实现一种或多种光学功能,在传感、通信/信号传输、环境检测等领域都有广泛的应用。集成光学在现代光通信和光信息处理应用中起了不可替代的作用,而薄膜则是集成光学系统一个关键的组成部分。将具有不同光学性质的单晶材料通过一定方式结合在一起形成薄膜材料,可以实现单一晶体所无法实现的功能。 锯酸锂(linbo3,ln)晶体是集成光学应用最多的一种晶体材料,因为其自身具有多种优良的光学性能,如压电、铁电、光电、光弹、热释电、光折变和非线性等光学性质。ln晶体有光学“硅”材料之称,成为少数经久不衰、源源不断开辟应用新领域的光学功能材料。近十几年以来,出现了一种制作高折射率差单晶薄膜的方法。离子注入技术和晶体键合技术相结合,将单晶银酸锂薄膜键合到沉积有siox(也可以是别的材料)的绝缘体衬底,制备出单晶锯酸锂薄膜(lithiumniobate on insulator, lnoi)。用的lnoi材料是三明治结构:ln薄膜/sio2层/ln衬底。最上面是一层ln薄膜,厚度大约0.5 um,中间一层是非晶的sio2,厚度约2 um,最下面一层是ln衬底。ln薄膜和sioz层形成的高折射率差对光形成限制作用。光被限制在一个很小的空间内,在很低的入射能量下,lnoi制作的波导中光的能量密度就可以达到很高的量级。ln体材料中的某些光学性质,例如非线性光学效应和电光效应,在 lnoi中可以得到一定程度的加强。lnoi作为一种制作集成光学器件的理想平台,制作的光学器件的性能可能有大幅度的提高,迄今已经有不少在lnoi上制作的器件的报道。但是器件的性能在很大程度上取决于材料的性能,所我们所知,关于lnoi光学和结构属性的报道并不多。因此,对于lnoi的结构和光学属性应该进一步的探讨,这对于设计、制备、评价lnoi上的集成光学器件有帮助和推动作用。 供应产品目录: 铬掺杂碳基薄膜 流延聚丙烯蒸镀金属薄膜(mcp) 二氧化硅薄膜 氧化铝薄膜 以多孔碳为骨架的纳米铝热薄膜 氧化铟锡钽薄膜 钽基介质薄膜 铝合金表面耐蚀润滑一体化薄膜 非晶硅薄膜 多晶硅薄膜 含钽薄膜 抗氧化铀钽薄膜 掺钽铀薄膜 氮化铪薄膜 氧化铌(钽)薄膜 钽硅介质薄膜 钽铝合金薄膜 铌铝碳 nb4alc3薄膜 xrf聚酯薄膜 钒铝碳 v4alc3薄膜 钼钨硫mows2薄膜 二硫化钼和硫化钼钨合金薄膜 含钼或钨薄膜 类石墨烯二硫化钨薄膜 二硫化钼mos2薄膜 层状二硫化钼纳米薄膜 稀土掺杂mos2薄膜 mos2/c复合薄膜 au nps薄膜 mos2/a-c复合薄膜 磁控溅射mos2 sb2o3防冷焊薄膜 单层/少层/多层二硫化钼纳米复合薄膜 c/n共掺mos2复合薄膜 层状二硫化钼/石墨烯(mos2/graphene)薄膜 非平衡磁控溅射离子镀mos2-ti复合薄膜 自润滑薄膜二硫化钼(mos2)和硬质耐磨薄膜氮化钛(tin) 无机硫化物二硫化钼(mos2)固体润滑薄膜 高质量的二硫化钼mos2纳米多层薄膜 二硒化钼mose2薄膜 二维二硒化钼(mose2)薄膜 稀土掺杂mose2薄膜 铜铟镓硒薄膜 单层/少层/多层硒化钼(mose2)薄膜 铜锌锡硫硒薄膜 银掺杂硒化钼(mose2)薄膜 二碲化钼mote2薄膜 单晶二碲化钼(mote2)薄膜 单层/少层/多层二碲化钼(mote2)薄膜 二维二碲化钼(mote2)薄膜 半金属mote2薄膜 mote2及mote2/mos2异质结薄膜 二维硒化钼薄膜 二硫化钨(ws2)薄膜 大面积mos2/二硫化钨(ws2)薄膜 单层/少层/多层二硫化钨(ws2)复合薄膜 二硫化钨/钨掺杂类金刚石(ws2/w-dlc)复合薄膜 二硒化钨(wse2)薄膜 大尺寸二硒化钨(wse2)薄膜 二硒化钨(wse2)半导体薄膜 单层/少层/多层二硒化钨(wse2)薄膜 垂直基底生长硒化钨纳米片薄膜 过渡金属硫属化物薄膜电晶体 二碲化钨(wte2)薄膜 二碲化钨(wte2)和铋薄膜 掺杂vo2薄膜 二硫化锡sns2薄膜 锡化亚锡sns薄膜 硫化铋(bi2 s3)薄膜 no/sns复合薄膜 cds/cds和cds/dy/cds薄膜 可挠性p型氧化亚锡薄膜电晶体 含氧化亚锡颗粒的双轴取向聚酯薄膜 氧化亚锡多晶薄膜 二硫化锡/三硫化二锡/硫化亚锡异质结薄膜 锡硫化物薄膜 硫化亚锡(sns)薄膜 电沉积硫化亚锡(sns)薄膜 硫化亚锡(sns)异质结薄膜 简易硫化亚锡(sns)微米棒薄膜 聚苯乙烯磺酸(pedot:pss)/硫化亚锡(sns)纳米带柔性薄膜 硫化亚锡(sns)敏化纳晶tio2膜 六方氮化硼(hbn)薄膜 石墨烯-六方氮化硼(hbn)薄膜 zn原位掺杂的p型六方氮化硼(hbn)薄膜 催化剂辅助化学气相生长高结晶六方氮化硼(hbn)薄膜 高储能效率铁电聚合物基电介质薄膜 三硒化二铟in2se3薄膜 硒化铟(inse和in2se3)纳米薄膜 cu(in,ga)se_2和cu_2znsnse_4薄膜 黄铜矿系薄膜 cuinse2(cis)薄膜 二硒化钼(mos2)薄膜 大尺寸单层/多层/少层二硫化钼(mos2)薄膜 二维硒化钼(mos2)薄膜 二氧化钛纳米线/二硒化钼(mos2)复合薄膜 二硒化铌nbse2复合薄膜 二硫化钒vs2薄膜 氮化碳(cnx)薄膜 高氮含量氮化碳(c3n4)薄膜 射频磁控溅射沉积氮化碳(cnx)薄膜 氮化碳(cnx/tin)复合薄膜 磷掺杂的石墨相氮化碳(cnx)薄膜 硒化锗gese薄膜 二元化合物硒化亚锗(gese)薄膜 高质量纯相gese多晶薄膜 ge-in-se硫系薄膜 锗-铟-硒薄膜 新型硒化锗gese无机薄膜 硫化锗ges薄膜 硫化锗-硫化稼-硫化镉非晶薄膜 li3po4/ges2复合固体电解质薄膜 锗复合磷酸锂固体电解质薄膜 硫化锗玻璃薄膜 硒化镓gase薄膜 硫化镓gas薄膜 碘化铬cri3薄膜 交叉状碘化氧铋纳米片薄膜 p型碘化亚铜cui薄膜 ch3nh3pbi3多晶薄膜 玻璃纤维布负载碘氧化铋光催化薄膜 yyp2021.3.31

众联pet聚酯薄膜

如何制作手机保护膜

? ? ?手机保护膜有两种形式,一种是塑料薄膜,而另外一种是钢化玻璃膜。首先给大家讲解一下它的制作原理。通常塑料薄膜是由一层pet原膜 一层涂布硅胶 一层pet离型膜做成的,一共是三层。而钢化玻璃膜是由一层玻璃 一层亚克力胶 一层pet原膜 一层涂布硅胶 一层pet离型膜做成的,一共是五层。

1、塑料薄膜

塑料薄膜的第一层是由pet原膜,一般刚买来的手机屏幕上贴的那个就是,然后第二层去万级无尘车间进行涂布硅胶,它的剥离力比较低,硅油低析出,使得透光率高于90%,第三层是pet离型膜,主要用于涂布硅胶上附着的pet原膜,再来烤干,贴合在保护涂布硅胶层的另外一边,避免灰尘、油污的污染。

2、钢化玻璃膜

? 钢化玻璃膜比较复杂,一共有5层,它的工艺与pet手机保护膜的工艺不一样,钢化膜主要是由玻璃膜粘贴ab胶制作而成。第一层是钢化玻璃,第二层是亚克力胶水,主要接着玻璃和pet原膜,第三层又是pet原膜,它的作用是承载亚克力胶水和涂布硅胶的载体,第四层是涂布硅胶贴在pet原膜上,第五层是pet离型膜,主要用来保护钢化玻璃的截面处。

扫码关注

更多薄膜咨询

分享
文章爱游戏平台的版权声明:除非注明,否则均为苗坤旺离型膜原创文章,转载或复制请以超链接形式并注明出处。

发表评论

快捷回复: 表情:
applausebadlaughcoffeefabulousfacepalmfecesfrownheyhainsidiouskeepfightingnoprobpigheadshockedslapsocialsweattolaughwatermelonwittywowyeahyellowdog
评论列表 (暂无评论,2人围观)

还没有评论,来说两句吧...

微信二维码
微信二维码
支付宝二维码
网站地图